微波等離子清洗機

產(chǎn)品型號：NE-MW12
性能特點：清洗溫度低，無損傷清洗，無電極濺射污染
產(chǎn)品用途：敏感電路，半導體元器件清洗

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產(chǎn)品介紹
產(chǎn)品參數(shù)

微波等離子清洗機由五部分組成：外殼框架系統(tǒng)、微波放電系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。該設備控制方式為觸摸屏+PLC，操作方式包括自動模式和手動模式，在自動模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時存儲50組不同的配方。設備設計有工作氣體耗盡報警、壓縮空氣壓力低于設定值報警、泵熱過載報警、反應倉泄露率過大報警等安全功能。微波等離子清洗作為一種綠色無污染的高精密干法清洗方式，可以有效去除表面污染物，避免靜電損傷。

微波等離子清洗機原理：

微波等離子是由工作頻率為2.45GHz的微波激發(fā)工藝氣體放電,在真空腔內壓力到達一定范圍時充入工藝氣體,當腔內壓力為動態(tài)平衡時，利用微波源振蕩產(chǎn)生的高頻交變電磁場將氧、氬、氫等工藝氣體電離，生成等離子體，活性等離子體對被清洗物進行物理轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質變成粒子和氣態(tài)物質，經(jīng)過抽真空排出，而達到清洗目的。

微波等離子清洗機特點：

微波等離子清洗與傳統(tǒng)濕法清洗相比，不需要使用大量的酸、堿、有機溶劑等，不會給環(huán)境帶來任何污染，有利于環(huán)保和人員安全，同時該清洗技術的均勻性、重復性和可控性非常好，具有三維處理能力，可以進行方向選擇。
微波等離子清洗機與低頻或射頻放電產(chǎn)生的等離子體相比，它的特點是沒有正負電極，自偏壓很小，不會產(chǎn)生放電污染，有效防止靜電損傷；等離子密度高，生產(chǎn)效率高；離子運動沖擊小，不會產(chǎn)生UV（紫外線）輻射，尤其適用于一些敏感電路的制程清洗。

微波等離子清洗機具有激發(fā)頻率高、自偏壓小、離子動能小、離子濃度高、化學反應強等特點，可以有效避免靜電損傷、實現(xiàn)均勻的三維清洗，與傳統(tǒng)等離子清洗（超聲或射頻）相比，微波等離子清洗可以產(chǎn)生具有優(yōu)良特性的等離子體，所以微波等離子清洗機在集成電路制程中，尤其是可靠性要求極高的軍用集成電路生產(chǎn)過程中發(fā)揮著舉足輕重的作用，集成電路封裝過程中，會產(chǎn)生各類污染物，包括氟、鎳、光刻膠、環(huán)氧樹脂和氧化物等，其存在會降低產(chǎn)品質量。微波等離子清洗技術作為一種精密干法清洗技術，可以有效去除這些污染物，改善材料表面性能，增加材料表面能量。

產(chǎn)品型號	微波等離子清洗機NE-MW12
外形尺寸	W850H538D600mm
腔體內部尺寸	W225H225D225mm
頻率	微波2.45GHZ
功率	50-500W可調
氣路	標配兩路
控制方式	PLC+觸摸屏
真空規(guī)	Priani真空計
電源	380V ，50/60Hz