臺式磁控濺射鍍膜機可提供單陰極和雙陰極配置。所有磁控管濺射配置均為向下濺射模式。陰極通常以夾緊方式使用標(biāo)準(zhǔn)的 2 英寸直徑靶。陰極配備獨立快門。緊湊型磁鐵板使用稀土磁鐵，可實現(xiàn)高沉積率。該裝置配有 350 瓦/30 kHz 的脈沖直流電源。然而，陰極也與可以單獨提供的射頻電源兼容。可濺射Fe、Co等磁性材料的陰極，可根據(jù)需要專門提供。基板載物臺可提供旋轉(zhuǎn)、加熱器和電隔離等設(shè)施，用于偏置目的?？蓱?yīng)要求提供接受 3” 直徑靶的陰極。

 

磁控濺射鍍膜機產(chǎn)品特點：

應(yīng)用廣泛，體積小，操作方便。

提供旋轉(zhuǎn)和距離調(diào)整的樣品架(從目標(biāo))

用于金屬和反應(yīng)性濺射的脈沖直流電源

渦輪分子泵可提供快速清潔的無油高真空

用戶友好的前面板彩色 LCD 基于觸摸屏 HMI 控制

具有配方管理功能的基于 PLC 的過程自動化

鍍膜儀擁有2個高精度質(zhì)量流量計，客戶如有其他要求，可定制多達(dá)4個質(zhì)量流量計的氣路，滿足復(fù)雜氣體環(huán)境建設(shè)的要求; 儀器標(biāo)配先進(jìn)的渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)1.0E-5Pa。同時，也可購買其他類型的分子泵。 分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以在不關(guān)閉泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高您的工作效率。 本產(chǎn)品可配集成工控計算機對系統(tǒng)進(jìn)行控制。計算機程序可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等大部分功能，可以進(jìn)一步提高您的實驗效率。
 

單靶磁控濺射鍍膜機應(yīng)用范圍：

單靶直流磁控濺射鍍膜機可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電膜、合金薄膜等。與同類設(shè)備相比，該單靶磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛，而且具有以下優(yōu)點：體積小，操作方便。是實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于固體電解質(zhì)、OLED等實驗室研究。